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LSI検査顕微鏡用ウェハローダ

NWL200シリーズ

LSI検査顕微鏡用ウェハローダ NWL200シリーズ

ニコン独自の高い技術力で、超薄型100μmウェハの安定搬送を実現。

半導体製造工程において、ウェハ厚はさらに極薄化の傾向にあります。
NWL200シリーズは、ニコン独自の高い技術力により、検査顕微鏡用ウェハローダ初の超薄型100μm厚ウェハの安定搬送を可能にしました。（※）
次世代の半導体検査にマッチした信頼性の高い搬送を実現します。


※ オプション対応となります。

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